Op zoek naar extreem ultraviolet
Het nieuwe instituut ontstaat uit een samenwerking van ASML, de Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie (FOM), de UvA en de VU en wordt deels gefinancierd door het NWO. Het onderzoeksprogramma van het INL zal zich in eerste instantie richten op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor toekomstige uitbreiding van Extreem Ultraviolet (EUV) lithografie.
Lithografie is een toonaangevende technologie voor het produceren van computerchips en is onmisbaar voor innovatie in de wereldwijde halfgeleiderindustrie. Naar verwachting zal het instituut belangrijke bijdragen leveren aan halfgeleiderlithografie, de belangrijkste technologie voor het maken van geheugenchips en processors in PC’s, smartphones en tablets. In de beginfase zal het instituut zich richten op de fysica van EUV-licht, infraroodlaserfysica, (oppervlakte)fysica van clusters en radicalen en nanofotochemie.
Ook gemeente betaalt mee
ASML zal meer dan een derde van het jaarlijkse budget van het instituut bijdragen en investeert hiermee circa €30 miljoen over een periode van 10 jaar. FOM en NWO zullen daarbij €25 miljoen euro bijdragen en UvA/VU samen €12,5 miljoen. De gemeente Amsterdam heeft €5 miljoen toegezegd als opstartfinanciering.
Het ligt in de lijn der verwachting dat het instituut baat zal hebben bij de stimuleringsmaatregelen van de overheid voor privaat-publieke samenwerking. Men mikt er ook op dat het instituut nog €25 miljoen kan verwerven via andere financieringsinstrumenten, zoals Europese programma’s. Alles bij elkaar gaat het om een bedrag van €100 miljoen voor 10 jaar.
Snelle expansie
Het instituut zal op korte termijn al van start gaan onder leiding van het al bestaande FOM instituut AMOLF. Tegen 2015 zal het een onafhankelijk instituut geworden zijn, dat wordt bestuurd door FOM in samenwerking met de UvA en de VU. Tegen die tijd zullen er ongeveer 100 mensen in dienst zijn, waaronder hoogleraren, postdocs, aio’s, afstudeerstudenten en technici. “Het nieuwe instituut zal gehuisvest worden op het SciencePark, het nieuwe instituut zal nauw samenwerken met de onderwijsprogramma’s van de gezamenlijke wetenschapsfaculteiten van de UvA en VU” zo laten de initiatiefnemers weten.
ASML benadrukt dat er ook ruimte zal zijn voor fundamenteel onderzoek dat niet direct bedoeld is in het ontwikkelen van een product. Martin van den Brink, Executive Vice President van ASML laat weten: “Naast onze bestaande samenwerking met universiteiten en onderzoeksinstituten ziet ASML de noodzaak voor fundamenteel lange-termijnonderzoek in nanolithografie, dat zich niet richt op het maken van een concreet product, maar op het verkennen van technologische mogelijkheden. Dit instituut met zijn brede onderzoeksagenda zal het kennisnetwerk op het gebied van nanolithografie uitbreiden en bijdragen aan innovatie in de halfgeleiderindustrie.”
Minister Kamp laat in een reactie weten: “De samenwerking tussen ondernemers en onderzoekers is van cruciaal belang om aan de top te blijven. Met dit instituut kan ASML de groeiende competitie aan en zijn wereldwijde marktpositie verder versterken.” Jos Engelen, de voorzitter van NWO, voegt toe: “Dit initiatief sluit aan bij de ambitie van NWO om betrokken te zijn bij langdurige publiek-private samenwerkingsprogramma’s en om het private bedrijfsleven aan te moedigen om haar bijdrage aan het financieren van wetenschappelijk onderzoek in ons land te vergroten. We zijn er trots op dat ASML deze samenwerking met FOM/NWO heeft gezocht.”
